粒子線照射装置及び粒子線治療装置

  • Inventors:
  • Assignees: 三菱電機株式会社
  • Publication Date: April 02, 2015
  • Publication Number: JP-WO2013065163-A1

Abstract

荷電粒子ビームが低エネルギーであっても小さなビームサイズで照射対象に照射することを目的とする。 本発明の粒子線照射装置(58)は、荷電粒子ビーム(1)が通過する真空領域を形成する真空ダクト(6,7)と、荷電粒子ビーム(1)が真空領域から放出される真空窓(8)と、荷電粒子ビーム(1)をビーム軸に垂直な方向に走査する走査電磁石(2,3)と、荷電粒子ビーム(1)の通過位置及びビームサイズを検出する位置モニタ(5)を有するモニタ装置(67)と、真空窓(8)を覆い、下流側にモニタ装置(67)が配置された低散乱ガス充填室(39)と、荷電粒子ビーム(1)の照射を制御する照射管理装置(20)と、を備え、低散乱ガス充填室(39)は、モニタ装置(67)と真空窓(8)とのビーム軸方向における相対位置が所望の位置に変更可能に配置され、荷電粒子ビーム(1)が照射される際に、空気よりも散乱が小さい低散乱ガスが充填されることを特徴とする。
荷電粒子ビームが低エネルギーであっても小さなビームサイズで照射対象に照射することを目的とする。本発明の粒子線照射装置(58)は、荷電粒子ビーム(1)が通過する真空領域を形成する真空ダクト(6,7)と、荷電粒子ビーム(1)が真空領域から放出される真空窓(8)と、荷電粒子ビーム(1)をビーム軸に垂直な方向に走査する走査電磁石(2,3)と、荷電粒子ビーム(1)の通過位置及びビームサイズを検出する位置モニタ(5)を有するモニタ装置(67)と、真空窓(8)を覆い、下流側にモニタ装置(67)が配置された低散乱ガス充填室(39)と、荷電粒子ビーム(1)の照射を制御する照射管理装置(20)と、を備え、低散乱ガス充填室(39)は、モニタ装置(67)と真空窓(8)とのビーム軸方向における相対位置が所望の位置に変更可能に配置され、荷電粒子ビーム(1)が照射される際に、空気よりも散乱が小さい低散乱ガスが充填されることを特徴とする。

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      JP-2007229025-ASeptember 13, 2007Hitachi Ltd, 株式会社日立製作所粒子線治療装置
      JP-2010017365-AJanuary 28, 2010Hitachi Ltd, 株式会社日立製作所粒子線治療システム
      JP-2011156340-AAugust 18, 2011Mitsubishi Electric Corp, 三菱電機株式会社粒子線治療装置
      WO-2010122662-A1October 28, 2010三菱電機株式会社Appareil de thérapie par radiation corpusculaire
      WO-2011080942-A1July 07, 2011国立大学法人群馬大学ビーム照射装置及びビーム照射制御方法

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